共面介质阻挡放电蒸发聚四氟乙烯沉积碳氟膜的研究
摘 要:首次将共面型介质阻挡放电（C—DBD）应用于蒸发聚四氟乙烯（PTFE）并沉积制备了碳氟膜，制备的碳氟膜尺寸为50～100nm，其表面均方根（RMS）粗糙度为15．55nm（测量面积为10μm×10μm）。发射光谱表明，C—DBD产生了能量较高的电子激发态Ar原子（12．9～13．5eV）。该方法装置简单，在常温常压下操作，薄膜沉积速率快，而且环境友好．王惠 吴庆浩 朱爱民
大连教育学院,辽宁大连116021 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁大连116024
页 数:共4页
关 键 词:介质阻挡放电 蒸发 碳氟膜 聚四氟乙烯
页:
[1]