模拟空间原子氧对Teflon FEP/Al薄膜性能的影响(英文)

聚四氟乙烯

模拟空间原子氧对Teflon FEP/Al薄膜性能的影响(英文)

【作者】 初文毅； 杨士勤； 何世禹； 杨坚华； 

【Author】 CHU Wen-yi~(1,2),YANG Shi-qin~1,HE Shi-yu~1,YANG Jian-hua~3(1.Space Materials and Environment Engineering Laboratory,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China;2.School of Chemistry and Materials Science,Heilongjiang University,Harbin 150080,China;3.Lanzhou Institute of Space Technology & Physics,Lanzhou 730000,China)

【机构】 哈尔滨工业大学空间材料与环境工程实验室； 真空低温技术与物理国防科技重点实验室 黑龙江哈尔滨150001 黑龙江大学化学化工与材料学院； 黑龙江哈尔滨150080； 黑龙江哈尔滨150001； 甘肃兰州730000； 

【摘要】 采用同轴原子氧模拟装置进行了空间原子氧效应对温控材料Teflon FEP/A l薄膜的影响研究.在束流密度为1.07×1016atoms/cm2.s的条件下,对材料进行不同剂量辐照,研究了Teflon FEP/A l薄膜的质量损失、表面形貌、表面粗糙度和光学性能的演化规律和表面元素的组成变化.试验结果表明,材料的质量损失与原子氧辐照剂量成正比例关系.随着原子氧辐照剂量的增加,材料的表面形貌由平整变为“地毯状”形貌,表面粗糙度、太阳吸收率和太阳吸收率与热发射率的比值发生明显变化,从而导致材料光学性能发生变化.辐照前后材料表面成份组成变化不大. 更多还原

【关键词】 原子氧； 温控材料； 质量损失； 表面粗糙度； 太阳吸收率； 

【基金】 SupportedbytheSpecialFundsNationalKeyLaboratoryofChina(514750301HT0102);NationalNaturalScienceFoundationofChina(50373007)

【参考文献】 说明：反映本文研究工作的背景和依据
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