武汉光电国家研究中心与河南省氟基新材料共建半导体用氟基新材料联合研究中心

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2026年10月22日，华中科技大学武汉光电国家研究中心——河南省氟基新材料科技有限公司（下文简称“氟基新材料”）“半导体用氟基新材料联合研究中心”签约揭牌仪式、项目启动会暨第一次管委会在武汉光电国家研究中心举行。

高端光刻胶是我国芯片领域被“卡脖子”的核心材料，目前主要依赖于进口，直接关乎我国芯片产业链安全。氟基新材料依托多氟多新材料股份有限公司深厚的氟基材料技术和产业积淀，建有氟基新材料国家制造业创新中心，将高端半导体光刻胶列为核心战略方向。华中科技大学具备优势的光电学科群，武汉光电国家研究中心李冲副教授团队长期深耕含氟光响应材料与光刻胶研究，取得系列重要进展。

此次双方共建联合研究中心，是整合基础研究和产业化优势、推动科技创新与产业创新深度融合的务实举措，是双方面向国家战略需求的强强联合。联合研究中心将致力于自主可控的高端光刻胶技术攻关。由于技术壁垒高，全国高校甚至企业针对该方向的系统性基础研究极其稀缺，联合研究中心将打通基础研究到产业应用的关键链路，推动创新链与产业链深度融合，战略意义深远。

联合研究中心将精准对接国内芯片产业高质量发展需求，聚焦高端光刻胶关键核心技术；充分发挥校企协同优势，推动科研成果向产品化、市场化转化，补齐我国高端半导体光刻胶领域短板，提升自主可控水平，减少关键材料对外依赖。

未来，双方将充分发挥高能级产业创新平台的引领作用与示范效应，联动产业链上下游主体集聚创新资源、协同突破技术瓶颈，赋能半导体等战略性新兴产业高质量发展，加速高端半导体光刻胶技术成果产业化落地，为全产业链自主自强、提质增效贡献创新力量。
来源：武汉光电国家研究中心